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Mentor Graphics發表Calibre nmDRC

(產品新聞, 14 Jul 2006 )

明導國際 (Mentor Graphics) 日前宣佈推出Calibre nmDRC工具，也為傳統的設計規則檢查 (DRC) 作業帶來新定義。這套工具大幅縮短總週期時間，還整合了關鍵區域分析及關鍵特徵辨識等克服奈米時代生產良率挑戰所需的多項重要功能。Calibre nmDRC是Mentor新平台Calibre nm Platform的一部份。這套平台象徵EDA產業解決奈米設計複雜性的做法將出現重大轉變。

在奈米技術領域裡，實體驗證已成為多個階段組成的精密程序，需要高度整合的方法來處理和應付複雜設計的龐大資料量。隨著設計的規模日趨複雜龐大、錯誤的數目持續增加以及驗證過程的迭代次數越來越多，總週期時間也變得越來越長。Calibre nmDRC以一種革命性的新方法回應縮短週期時間的需求，它提供四種關鍵功能使得Calibre nmDRC截然不同於傳統的設計規則檢查工具。Calibre nmDRC的特性如下：
• Hyperscaling技術把更高擴充性和超快的執行速度提供給需要大量運算的應用。這項技術提供多種先進資料處理方法，它們可以透過速度最快的單CPU和多CPU效能在數秒內完成功能方塊驗證，全晶片驗證也僅需數小時。Hyperscaling可以延長現有共享記憶體處理器系統的使用壽命，同時充份利用成本較低的分佈式機架系統，進而大幅降低廠商的資本支出。
• 動態結果顯示 (Dynamic Results Visualization，DRV) 以及Incremental DRC大幅改變傳統迭代程序的循序作業流程。DRV可在第一輪驗證發現第一個錯誤後的幾秒內就讓設計人員展開除錯工作。等到錯誤更正後，Incremental DRC會針對修改部份執行並行驗證作業。這項功能讓設計人員一天就能完成多個執行/除錯週期，大幅縮短總週期時間。
• 整合性可製造設計 (DFM) 分析和增強功能讓設計人員做出電路佈局取捨，進而將隨機性、系統性和參數化的良率損失減至最少。透過設計規則檢查、良率分析和佈局修改，設計人員就能在更短時間內產生符合設計規則和高良率的佈局。
• 直接資料庫存取功能讓設計人員無論採用何種設計環境，都能在整個流程中更方便地使用Calibre nmDRC。常用設計和封裝資料庫 (LEF/DEF、MilkyWay、OpenAccess、GDSII和OASIS) 的直接讀取可省下資料串流輸出的處理步驟，進而加速設計規則檢查的週期時間。直接寫入功能則可將DFM增強資料寫回設計資料庫。最後，它還能支援OASIS串流檔案格式以縮小檔案，進而加快串流輸出以及幫助檔案傳輸和資料儲存。

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